全球AMC及VOCs監測領導廠商創控科技（6909）提供半導體製程高度客製化AMC監控應用解決方案，協助半導體廠更嚴密地做好AMC氣體微污染管理，提升半導體製程良率。作為半導體製程 AMC 監控應用解決方案的先行者，創控今年也擴大SEMICONTaiwan 2024國際半導體展攤位規模，於南港展覽館二館一樓Q5646攤位首度公開最新產品FMS 2000半導體製程FOUP（前開式晶圓傳送盒）微環境監測整合式解決方案，為先進製程解決FOUP污染監測問題。
在半導體製程中，FOUP內的污染是一個嚴峻的挑戰，從乾淨到受污染的晶圓，過程涉及FOUP排氣、轉移到晶圓以及FOUP可能再次受到污染等階段，過去因為缺乏監測解決方案，污染物的持續交換會放大影響，導致缺陷、良率下降和設備使用壽命縮短。透過創控的微環境監測整合式解決方案，能精準協助客戶監控包括NH3、Amines、SO2、IPA、Toluene、Acetone、HF、HCl等常見污染。
創控MiTAP系列產品提供完整AMC監測運用，從環境監測、晶圓搬運盒（FOUP）潔淨度確認到設備機台內的污染管控，都有最符合經濟效益的解決方案核心產品。從全廠環境到廠內、製程中之設備，於現地單點或搭配多點採樣系統，MiTAP Manifold System於先進製程更貼近客戶需求；MiTAP Cart System的移動優勢更全面改良升級，廣泛運用於廠內、無塵室、化學濾網效能評估。MiTAP M3量測酸性、鹼性氣體，創控產品量測物種也從VOCs有機物種的量測，擴大至AMC酸鹼物種的分析，完善AMC整體監測方案。
創控深耕半導體製程AMC監控管理十餘年，深知客戶在廠務、設備、管理、品管等各方面會面臨到AMC困擾，除致力於提供客製化AMC監控解決方案，更因應產業發展預先投入新產品研發，超前部署市場需求。AI應用推動半導體先進製程投資，創控受惠先進製程對AMC監測的剛性需求，在先進製程對於生產環境之潔淨度要求更為嚴格下，創控亦持續研發新產品協助客戶解決更多痛點。
SEMICON Taiwan 2024國際半導體展以賦能AI無極限為主軸，聚焦先進製程等熱門議題，創控提供先進製程完整的AMC監控解決方案，協助半導體良率提升，期為AI趨勢浪潮扮演幕後推手角色，與半導體產業共創商機。
