美國的華為禁令升級，再加上華為前財務長孟晚舟被加拿大法院宣判雙重犯罪，符合美國的引渡法，可預見美國在警告將對中國大陸官員制裁的前奏，就是拿孟晚舟殺雞儆猴。
當然，在人大通過表決香港國安法後，最快八月可完成立法，走到這一步，已經符合川普先前的預警─他將切斷美中關係，可以預期中國大陸將奮發圖強，全力發展科技去美化，達到自主自控的目的。
在三十五項中國大陸科技被封鎖的關鍵技術中，能夠做七奈米製程的光刻機排名第一，晶片排第二，而近期市場熱門板塊的光刻膠排名第二十一名，從這個角度就不難理解為什麼前期容大感光的光刻膠項目還沒投產，就先走出七天五板的飆漲走勢。
晶片製造最核心技術 光刻膠是其中最重要耗材
在晶片的製造過程中，往往要對晶圓片進行十至五十道光刻過程，在光刻過程需要在晶圓片上塗一層光刻膠，經過紫外線曝光後，光刻膠的化學性質發生變化，通過顯影後，被曝光的光刻膠將被去除，電路圖形由掩膜版轉移到光刻膠上，再通過蝕刻，實現電路圖形由光刻膠轉移到晶圓片上，所以光刻膠是光刻過程中最重要的耗材。
而整個光刻過程的成本約整個晶片製造的三○％，所耗費的時間約佔整個晶片製造的四○％至五○％，是晶片製造的最核心的技術。
目前中國大陸的光刻膠廠商佔全球市佔率的一○％以下，但在美中科技戰惡化升級，中國大陸加速扶植本土廠商去美化，包括中芯國際、華虹半導體、華力微等中國大陸晶圓代工廠已經接獲官方政策指示，加快採用中國大陸製國產設備，突破美國的科技封鎖。
中國大陸塗膠顯影設備唯一廠商 產品已在半導體大廠上線測試
TEL(Tokyo Electron Limited，日本東京電子)在全球塗膠顯影設備的市佔率達八七％，DNS、SEMES、SUss等合計佔一三％。
TEL在中國大陸塗膠顯影設備是市佔率超過九○％，芯源微是定位於塗膠顯影設備的中國大陸唯一廠商，其前道l-line塗膠顯影機已在長江存儲上線進行驗證，可滿足○．一八微米的技術需求；前道Barc(抗反射層)塗膠設備已在上海華力上線測試應用，可滿足二十八奈米的技術需求。
芯源微二○一九年營收二．一三億元人民幣(下同)，年增率一．五一％，淨利潤為二九二七．五八萬元，年增率下降三．九四％。擬派發每十股派發現金股息一．二五元(含稅)，現金分紅比率為三五．八七％。
就股價技術面而言，芯源微處在高位的大區間震盪整理，但日Ｋ線圖的MACD指標呈現打底逐漸轉強的訊號，可以留意突破頸線的轉強訊號。
